GEW　GMP対応高性能洗浄機

cGMP環境では効果的なクリーニングだけでは十分でありません。プロセスは再現性が必要であり、それを制御できなければなりません。GEW cGMPシリーズはこれらの要求を長年の経験を元に最もタフなアプリケーションでも取り扱えるように設計/開発されてきました。

●頑強なサニタリー構造
●SUS製のメインフレーム及びパネル
●配管はすべてSUS316L製、デッドレグは4D以下、勾配は2%以上
●プロセス配管仕様はBPEに準拠
●効果的な洗浄と乾燥を行なうデュアル循環回路
●人間工学に基づいたローディングプラットフォーム
●21CFR Part11、最高水準の技術であるモジュール型PLCシステムを備えています
●FAT報告書を含む完全なドキュメンテーションパッケージ